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半導體制造中必要的微量氣體微量氧檢測與控制
日期：2025-12-05 11:02
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摘要：制造半導體所用的特殊氣體必須是離純度的，因為這一過程非常**。即使存在萬億分之一的微量雜質，也會導致整批晶圓的損失。在這些應用中，關鍵參數的可靠、可重復測量（檢測下限小于100PPT）至關重要。我們為您提供所有關鍵微量雜質的可靠測量，許多參數的檢測水平低至十億分之一。您可以從單一供應商提供的完整解決方案中獲得方便和安心。為了更加方便，還可以使用單個分析儀系統進行多種微量雜質測量。
監測和控制特殊氣體中微量雜質的完整解決方案
我們的氧氣和水分分析儀和傳感器，連同過程氣相色譜儀，提供了一個完整的解決方案來監測和控制惰性氣體、特殊氣體和有毒氣體的純度，如：氮氣（N2）、氦氣（He）、氬氣（Ar）、氧氣（O2）、氫氣（H2）、六氟化鎢（WF6）、八氟環丁烷（C4F8），硅烷（SiH4）、鍺烷（GEH4）、一氧化二氮（N2O）和三氟化氮（NF3）。
產品選擇
高純氣體中的微量氧
| 應用/服務 | 測量范圍 | 測量氣體/背景氣 | 推薦產品 |
|---|---|---|---|
| 高純氣體中氧污染的監測 | 0-100ppb | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
| 監測大氣釬焊和退火銅膜用高純氫**劑氣體的氧污染 | 0-100ppb O2 | N2, H2, Ar | PI2-UHP100 & PI2-MS1000 |
樣氣雜質
| 樣氣 | 范圍 | AR(ldl) | H2(ldl) | CO2(ldl) | NMHC(ldl) | N2 | CO(ldl) | CH4(ldl) |
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檢測下限
注:噪音水平是基于使用氦保護氣體的噪聲峰值
| 組分 | 濃度 (ppb) | 峰高 (mV) | 噪音(mV) | LDL (3 倍噪音) (ppt) |
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